国产最新光刻机最先进的工艺是6纳米工艺的虎贲7520芯片。属于第二代5g网络芯片,其理论性能约等于联发科天玑800处理器水平。
缺点是良品率低,尤其对比市场上主流芯片良品率…而框架结构设计上也是欠缺,6纳米工艺制程芯片性能只能对比目前中端处理器,对比旗舰级别处理器差距明显,尤其驾驭硬性性能输出不够,跑分上落后很多。
国内产的芯片主要搭载中低端产品,其配置上更多搭载的是虎贲t310型号,工艺制程是12纳米技术,跑分约3.7万左右!实际操作上只能对比一下高通骁龙4系处理器,或者是联发科p30芯片。
中国目前最先进的光刻机是22nm的,它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了,这是中芯国际取得的一个重大成绩。
目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了,它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机(EUV),是目前全球最顶尖的光刻机设备。
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