常用的镍银或镍金层一般1~3微米。镍层较厚, 要起阻挡层作用。
另外镀的方法上有电镀和EN镀,镀层表面质量不一样。
分立半导体器件的电镀一般采用纯锡或锡基和金电镀,这几年由于欧洲RoHS指令生效,纯锡电镀较为流行。纯锡电镀有Wisker的问题,所以镀层厚度的最小值一般要求超过8微米,并配合150C回火。
不同的封装工艺,对镀层的要求不尽一样,业界没有固定的标准。只要能做到满足可靠性就可以了,200-600微英寸。
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